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超快泵浦探測陰影成像系統(tǒng)-UPSI100

超快泵浦探測陰影成像系統(tǒng)-UPSI100
產(chǎn)品簡介
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產(chǎn)品分類article
相關文章超快泵浦探測陰影成像系統(tǒng)-UPSI100主要利用調節(jié)pump和probe光之間的光程差來進行測試。首先激光打在樣品上,樣品表面會產(chǎn)生一定 程度的損毀,由于本過程很快(ps量級)因此單使用相機連續(xù)采集不能夠完整的觀察到整個損毀的過程。在本儀器中,當每一次激光打在樣品后,便可通過延遲線調節(jié)兩個光脈沖之間的延遲,從而分別采集激光打在樣品后不同時刻樣品損毀情況。
超快泵浦探測陰影成像系統(tǒng)-UPSI100主要技術指標
| 檢測模式 | 超快光損傷/等離子濺射 |
| 時間窗口范圍 | 8 ns |
| 探測器類型 | ICCD,門控時間3 ns |
| 探測時間分辨率 | 1.5倍激光脈寬 |
| 激發(fā)光聚焦鏡頭 | 20X/50X 可選 |
| 樣品移動方式 | 全自動樣品二維電控移動平臺 |
| 軟件功能 | 數(shù)據(jù)采集/分析軟件 |


本功能主要利用相機的門采集功能以及延遲來采集不同時刻,樣品等離子體濺射過程。整個測試流程是激光聚焦打在樣品上,樣品會產(chǎn)生等離子體此時相機的曝光時間固定,曝光時間就相當于一個“門”,再通過時序來調節(jié)“門”相對于激光打在樣品上的時間為0來進行延遲,從而分別拍出不同時間等離子體的濺射過程。